的路线，八十年代就已经提出，今年正式突破，但第四代光刻机，半导体行业，已经争论了很多年，但都没有头绪。
为了把193纳米突破到157纳米，目前最顶级的半导体学术行业，提出了准分子激光、电子束投射、离子投射、X光等多个方案。
这些方案中，目前日苯半导体那边倾向于准分子激光方案，但不论哪种方案，都面临透镜、光刻胶等难题，而且难度十分大，如果这些方案都没奏效，也就意味着引导半导体行业几十年的摩尔定律……正式失效了！”
说起这些，吴新屹是直摇头，家家都有本难念的经，对于东芯半导体来说，是怎么追赶最先进的光刻机，而对于尼康、佳能、GCA、IBM等公司的光刻机部门来说，焦虑的是，第四代光刻机到底何去何从。
李东陵盘算了片刻，向着吴新屹问道，“你认为，第四代光刻机，能困扰尼康、佳能、阿斯麦那些公司多久？”
“三年或者五年？”
“或许几年内就能够突破，但也许，需要可以更长时间，十年都不一定！”
吴新屹摇头说道，研发这种事，有时候确实是需要几分运气的，就像后世，大项目工程开建前，哪怕是铁建、中建、能建等建筑巨头，也需要祭拜土地神，上三柱香，烧一踏纸，五路财神拜一圈。
连阿美利加不少大学，都开设了风水学，毕业了根本不愁找不到工作，被各路地产巨头、富豪、权势人物轮流请着指点风水，有时候，不少东西是真有点邪门的。
“只要第四代光刻机，能拖住尼康、佳能、阿斯麦五年时间，就足够了！”
“老吴，你应该听到龟兔赛跑的故事，对于东芯半导体来说，要做的就是在这五年之内，追上光刻机第一梯队的厂商，然后……决战第四代光刻机！”
李东陵看着吴新屹说道，现在对于东芯半导体来说，距离尼康、阿斯麦的光刻机，足足有一代技术的差距。
如果按照正常速度，那差距一代技术，想要追赶，肯定不容易，还可能被越甩越远。
但第四代193纳米的光刻机，却如同天堑一般，横在整个光刻机跟半导体行业面前，让整个行业，都面临无法寸进的麻烦。
甚至于，过上几年，面对第四代光刻机的铜墙铁壁，为了攻克第四代光刻机，作为现在半导体老大的英特尔，都急得憋不住了。
在1997年，英特尔出面，游说阿美利加国会山，然后让阿美利加能源部出面，纠集了一帮
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