完全认同教授所说的学生需要完备的理论支撑。所以，这件事我已经和上层领导讨论过，如果能有幸入选，我会严格按照清大培养方案的要求，利用一切空闲时间完成所有必修选修课程，保证理论学习的系统性。”
“与此同时，我会把一线实践过程中遇到的问题反向带回校园，与导师和同学们进行更有针对性，更深入的探讨。我相信这种反向推敲，边学边用的模式也许会给清大的培养模式带来一些新的思考。”
他表达了对清大培养模式的尊重，同时有理有据的阐述了基地工作的独特价值，条理清晰不卑不亢。
龙老眼中闪过一抹赞赏的微光，笑着点了点头。
那位提问的教授虽然没有表示赞同，但紧皱的眉头到底舒展开来，没有继续追问。
紧接着，另一位专精于半导体领域的教授继续开口，问了一个更具体的技术问题。
“江南同学，请从物理学的角度谈谈，你认为在当前及未来亚纳米节点，极紫外光刻系统面临的最大物理挑战是什么？不仅仅是光源功率和透镜，我希望听到更本质的物理限制。”
这个问题非常专业且刁钻，对于研究生复试考试来说难度过大。
龙老坐直了椅背，有些担心的看了看江南。
随后，会议室里响起江南沉稳从容的声音。
“除了众所周知的光源转换效率与功率、光学系统设计与像差控制等工程难题外，从更基础的物理层面来看，我认为核心挑战至少体现在三个方面：”
他边说边思考，回答得流畅又有逻辑，可见是平时就有过深入思考。。
“第一是量子效应带来的极限。当特征尺寸逼近原子尺度，量子隧穿效应、尺寸效应会变得极其显著，传统的半导体器件物理模型会逐渐失效，材料的能带结构、载流子输运行为都会发生本质变化，这对光刻精度提出了近乎苛刻的要求，同时也意味着我们可能需要探索全新的器件架构，甚至是非硅基材料。”
“第二是光与物质相互作用在极紫外波段的特殊性。EUV光子能量极高，几乎所有材料都会对其强烈吸收，这也就意味着我们没办法使用传统的透射式光学系统，而必须采用基于布拉格反射的多层膜反射镜。但这带来了反射率提升难、膜层热稳定性、缺陷控制等一系列极其复杂的表面与界面物理问题……”
“第三是随机性问题。在极紫外光刻中，由于光子数量有限、二次电子发射的统计涨落等，会引入显著的随机涨落效应，如线
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